在信息技术领域中，以半导体材料为基础制作的各种器件，广泛应用于信息的传输、存储、控制、探测，如热敏电阻、磁悬浮、LED显示屏等。而半导体超精密加工工程，需要研磨抛光，其中对抛光液有很高的要求。但是如今制作的抛光液由于粒子大小不均，存在分散性不均，颗粒研磨抛光时分散持续时间不够长，划伤和加工速率低等问题。导致工件表面粗糙无法满足半导体后工程制造所需的要求。针对现有抛光液制备过程中存在的缺陷与不足，提供一种成本低廉、结构简单、操作方便、安全环保的新型抛光液制作装置，通过对抛光液的改良来提高半导体产品的质量。

新型的抛光液制作装置，包括循环、搅拌粉碎、贮存三个系统。

循环系统：整个装置可以多次循环对抛光液进行物理搅拌和超声波作用粉碎。并使液体多次循环后到达目标容器。

搅拌粉碎系统：由搅拌轴，搅拌叶片与罐体构成搅拌功能主体。搅拌系统依靠交叉的搅拌叶片和底叶片转动，配合周围的挡板，可以从下到上、从左到右全方位搅拌，使搅拌更加均匀。为了减少重力的影响，使效果更佳，装置中加入了真空泵，泵中的一端导管插入罐体，导管末端要高于液面。

罐体将连接粉碎系统。粉碎采用超声波粉碎，通过超声波对大颗粒进行打散形成大小均一的微粒，减少团聚效应。

贮存系统：由贮存器和阀门组成，可以保证储存和分装。可以利用阀门控制流速和所需要的量。